纳糯三维Nanoscribe的高精度3D双光子无掩模光刻系统可以实现几乎任何三维结构的打印制作，并同时具备光学质量表面。
这有效规避了机械工具所施加的限制以及减材制造常见的几何或工艺设计局限。
可以实现打印单个微透镜，自由曲面光学器件和复合透镜系统等，无需对单个组件进行打印后在组装起来。
Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。
生物医学应用:
以高的打印精度和打印速度实现几乎任意三维结构，以快速的设计迭代周期优化您的研究，以广泛的生物材料、生物墨水和生物相容性树脂拓宽您的打印材料选择。
通过使用系统配备的触控屏实现丝状和复杂的三维结构的高精度打印，并直观地放置到微流控通道或孔中。
这些特点使得QuantumXbio生物打印系统成为创建微观环境的最佳工具，可用于组织工程、细胞研究的定制支架，以及其他许多对精度、速度、材料多样性和无菌性有着较高要求的创新的生物医学应用。
QuantumXbio让您站在探索生物和生物医学应用的前沿。
系统配备无菌和可温控的基底支架，无菌配件，生物材料和生物墨水，并且兼容其他定制材料。
有了QuantumXbio，您就可以探索活体细胞打印的世界。
探索生物医学应用:
细胞支架——皮肤/组织模型
智能/活体材料——微流控技术
微针阵列——药物输送载体
纳米/柔性机器人——血管模型
生物传感器——亚微米级图案设计
细胞力学和迁移的拓扑结构
【公司定位】纳糯三维Nanoscribe作为双光子灰度光刻微纳加工制造的先驱和创新者，从科研实验室到工业生产现场，Nanoscribe提供全方位高精度增材制造解决方案，显著简化制造流程、提升效率与精度。
【公司资质】Nanoscribe的2GL®技术受中国国家专利保护（专利号：CN110573291B）A2PL技术受中国国家专利保护（CN109997081B）
【主营业务】微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造
【应用领域】微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术
【产品优势】Nanoscribe公司拥有世界领先的双光子无掩模光刻3D打印技术，全新QuantumX系列具有专利双光子灰度光刻(2GL®)，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，A2PL®技术支持自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记，并以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件，确保打印结构与光学轴严格对齐。
【产品评价】QuantumXalign系统代表了新一代对准3D打印技术的发展方向，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，并具备自动对准能力，从而支持可靠、低损耗的光子耦合，以及在传感与成像等应用领域的多样化需求.
【品牌客户】哈佛大学，加州理工学院，牛津大学，斯图加特大学，麻省理工学院等
【技术领域】3D微纳加工、双光子加工
【客户反馈】纳糯三维Nanoscribe的技术在各项关键性突破研究中被提到，出现在2,100多份经同行评审的期刊出版物中
【咨询热线】139-1799-4506（韩先生）